HORIBA堀場PH計在半導體制造設備中主要應用于純水及廢水處理環節的pH監測與控制，通過高精度測量與穩定性能保障工藝水質符合生產要求，同時其模塊化設計和耐用性可適應半導體行業對設備可靠性和環境適應性的嚴苛標準。以下是具體應用場景及優勢分析：

一、核心應用場景

1、純水制備與循環系統
半導體制造需使用超純水（電阻率≥18 MΩ·cm），水中pH值直接影響離子交換樹脂的再生效率和反滲透膜的壽命。HORIBA PH計（如HP-480型）可實時監測純水pH，防止因酸堿度異常導致設備腐蝕或產品污半導體制造設備染。

2、廢水處理與排放控制

半導體廢水含氟化物、重金屬及有機溶劑，需通過中和反應調節pH至合規范圍（通常6-9）后再排放。HORIBA PH計可集成于廢水處理系統，通過自動加藥控制實現精準中和，避免因pH波動導致處理不干凈或二次污染。

3、化學機械拋光（CMP）工藝
CMP漿料需嚴格控pH以維持拋光液穩定性。HORIBA筆式PH計（如PH-11/22型）可快速檢測漿料pH，確保拋光速率均勻性和晶圓表面平整度。

二、技術優勢與行業適配性

1、高精度與穩定性：量程覆蓋0-14pH，分辨率達0.01 pH，滿足半導體工藝對微量雜質敏感的需求。

2、溫度補償功能：支持500Ω、6.8kΩ等多類型補償元件，可消除溫度對測量結果的干擾（如純水系統溫度波動±1℃時，pH測量誤差小于等于0.02）。

3、抗干擾與耐用性：

● 無鉛玻璃電極：采用環保材料，減少重金屬析出風險，符合半導體行業對設備清潔度的要求。

● IP65防護等級（如HP-480型面板安裝設計）：防塵防水，適應潔凈室環境。

4、模塊化與易維護性

● 多電極兼容性：支持平面電極、針式電極等不同類型，可匹配半導體行業多樣本特性（如微量液體、高粘度漿料）。

● 自動故障診斷：HP-480型可檢測電極不對稱電位、靈敏度異常，并顯示錯誤代碼，縮短停機時間。

三、典型應用案例

1、某12英寸晶圓廠應用：
部署HORIBA HP-480 PH計監測超純水系統，實現pH控制精度±0.05 pH，使反滲透膜更換周期延長30%，降低企業運行成本。

2、CMP漿料檢測：
使用PH-11筆式PH計測量0.1mL樣品，3秒內完成讀數，較傳統燒杯法效率提升80%，且測量重復性≤0.03 pH。

四、為何選擇HORIBA堀場？

1、微量樣品測量能力
HORIBA筆式PH計（如PH11）僅需一滴樣品即可完成測量，適用于半導體制造中昂貴或稀缺化學品的檢測，減少浪費并降低成本。

2、防塵防水設計
LAQUAtwin系列PH計達到IP67防護等級，可適應半導體潔凈室環境，避免灰塵或液體侵入導致設備故障。

3、一站式解決方案

HORIBA不僅提供PH計，還整合了光譜橢圓儀、拉曼光譜儀等半導體分析儀器，形成從材料表征到工藝監控的完整解決方案。例如，其橢圓偏振光譜儀可非破壞性測量薄膜厚度和光學常數，與PH計數據結合，優化沉積或蝕刻工藝參數。

在半導體制造領域，超純水是芯片生產的"血液"，其純度直接影響晶圓良率與器件性能。而水質酸堿度（pH值）作為核心參數之一，對化學機械拋光（CMP）、濕法清洗、光刻膠剝離等關鍵工藝的穩定性至關重要。HORIBA堀場憑借70余年精密測量技術積累，為半導體行業量身打造了全場景pH監測解決方案，以納米級精度守護每一滴工藝用水的純凈。